固体表面分析２
コタイヒョウメンブンセキ
内容紹介
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目次
- 6 フーリエ変換赤外分光法
- 1．フーリエ変換赤外分光法の基礎
- 2．IR透過法
- 3．高感度反射法（IRAS）
- 4．全反射赤外吸収（ATR）法
- 5．顕微赤外分光法
- 6．参考文献
- 7 走査トンネル顕微鏡
- 1．STMの基礎
- 2．STM装置
- 3．STMの観察例
- 8 原子間力顕微鏡
- 1．原子間力顕微鏡の基礎
- 2．AFMに基づく新しい測定方法
- 3．AFMによる接触測定
- 4．AFMによる非接触測定（静電気力の測定）
- 9 ラザフォード後方散乱法
- 1．はじめに
- 2．RBS法の原理
- 3．RBS装置
- 4．RBS／チャネリング法による分析
- 10 ケーススタディ
- 1．Si酸化膜の成長のキャラクタリゼーション
- 2．エピタキシャル成長過程
- 3．アルミニウム選択CVD反応のin situ観察
- 4．触媒表面のキャラクタリゼーション
- 5．ダイヤモンドの表面吸着構造―拡散反射赤外分光法による気相成長過程解明をめ ざして―
- 6．単結晶表面上の反応解析
- 7．深さ方向の分析―InP、GaAs系多層膜の深さ方向分析―
- 8．面分析―鉄鋼材料の破面分析―
- 9．有機物分析―チャージアップ補正の例―
- 10．高分子材料の表面・断面分析
- 11．半導体の不純物分析―AESとSIMSの比較―
