固体表面分析2

コタイヒョウメンブンセキ
編:大西 孝治 編:堀池 靖浩 編:吉原 一紘 その他:荒賀 年美 その他:安藤 寿浩 その他:石田 英之 その他:伊藤 正時 その他:工藤 昭彦 その他:酒井 明 その他:坂上 弘之 その他:佐藤 洋一郎 その他:鈴木 茂 その他:田中 浩三 その他:田中 繁夫 その他:堂免 一成 その他:内藤 周弌 その他:野村 淳子 その他:服部 健雄 その他:堀池 靖浩 その他:堀越 佳治
固体表面分析2
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内容紹介

進歩の著しい手法を入門者向けに親切に解説2巻は、これから表面分析に取り組む人のために、総合的な表面研究・分析例を豊富に取りあげた。FT-IR、STM、AFM、RBSおよびケ-ススタディ。

目次

  • 6 フーリエ変換赤外分光法
  •   1.フーリエ変換赤外分光法の基礎
  •   2.IR透過法
  •   3.高感度反射法(IRAS)
  •   4.全反射赤外吸収(ATR)法
  •   5.顕微赤外分光法
  •   6.参考文献
  • 7 走査トンネル顕微鏡
  •   1.STMの基礎
  •   2.STM装置
  •   3.STMの観察例
  • 8 原子間力顕微鏡
  •   1.原子間力顕微鏡の基礎
  •   2.AFMに基づく新しい測定方法
  •   3.AFMによる接触測定
  •   4.AFMによる非接触測定(静電気力の測定)
  • 9 ラザフォード後方散乱法
  •   1.はじめに
  •   2.RBS法の原理
  •   3.RBS装置
  •   4.RBS/チャネリング法による分析
  • 10 ケーススタディ
  •   1.Si酸化膜の成長のキャラクタリゼーション
  •   2.エピタキシャル成長過程
  •   3.アルミニウム選択CVD反応のin situ観察
  •   4.触媒表面のキャラクタリゼーション
  •   5.ダイヤモンドの表面吸着構造―拡散反射赤外分光法による気相成長過程解明をめ   ざして―
  •   6.単結晶表面上の反応解析
  •   7.深さ方向の分析―InP、GaAs系多層膜の深さ方向分析―
  •   8.面分析―鉄鋼材料の破面分析―
  •   9.有機物分析―チャージアップ補正の例―
  •   10.高分子材料の表面・断面分析
  •   11.半導体の不純物分析―AESとSIMSの比較―

製品情報

製品名 固体表面分析2
著者名 編:大西 孝治 編:堀池 靖浩 編:吉原 一紘 その他:荒賀 年美 その他:安藤 寿浩 その他:石田 英之 その他:伊藤 正時 その他:工藤 昭彦 その他:酒井 明 その他:坂上 弘之 その他:佐藤 洋一郎 その他:鈴木 茂 その他:田中 浩三 その他:田中 繁夫 その他:堂免 一成 その他:内藤 周弌 その他:野村 淳子 その他:服部 健雄 その他:堀池 靖浩 その他:堀越 佳治
発売日 1995年04月14日
価格 定価 : 本体6,311円(税別)
ISBN 978-4-06-153366-0
判型 A5
ページ数 324ページ